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當(dāng)前位置:德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司>>產(chǎn)品展示>>Deposition沉積系統(tǒng)
NLD-3000原子層沉積系統(tǒng):ALD原子層沉積可以滿(mǎn)足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性...
AT-400原子層沉積系統(tǒng)高縱橫比沉積,具有良好的共形性;曝光控制,用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實(shí)現(xiàn)所需的共形性;預(yù)置有經(jīng)驗(yàn)證過(guò)的 3D 和 2D 沉積的優(yōu)化配方;簡(jiǎn)單...
NPD-4000(M)PLD脈沖激光沉積系統(tǒng):脈沖激光束聚焦在固體靶的表面上。固體表面大量吸收電磁輻射導(dǎo)致靶物質(zhì)快速蒸發(fā)。蒸發(fā)的物質(zhì)由容易逃出與電離的核素組成。...
NPD-4000(A)全自動(dòng)PLD脈沖激光沉積系統(tǒng):脈沖激光束聚焦在固體靶的表面上。固體表面大量吸收電磁輻射導(dǎo)致靶物質(zhì)快速蒸發(fā)。蒸發(fā)的物質(zhì)由容易逃出與電離的核素...
NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD:針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)...
NMC-3000 PAMOCVD系統(tǒng):針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝...
NMC-4000(M)PAMOCVD系統(tǒng):針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓...
NMC-4000(A)全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng):針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有...
NLD-4000(ICPA)全自動(dòng)PEALD系統(tǒng):ALD原子層沉積可以滿(mǎn)足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于...
NLD-4000NLD-4000(ICPM)PEALD系統(tǒng):ALD原子層沉積可以滿(mǎn)足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積...
NPE-4000PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng):能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到Z大可達(dá)12“ 直徑的基片上.采用淋浴頭電極或中空...
NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12“ 的基片.淋浴頭電極或...
NPE-4000(M) PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12“ 的基片.淋浴頭...
NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12“ 的基片.淋浴頭電極或...
NPE-4000(A)全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12“ 的基片.淋...
NPE-4000(ICPM)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12“ 的基片...
NPE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可達(dá)6“ 基片...
NSC-1000磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)...
NSC-3000(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真...
NSC-3000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng):臺(tái)式自動(dòng)系統(tǒng),帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...
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